数控机械设备1734-OE2V抗干扰能力强

数控机械设备1734-OE2V抗干扰能力强

数控机械设备1734-OE2V抗干扰能力强

　粉末ALD设备

　　应用领域：锂电池粉末或极片，金属粉末，荧光粉粉末等粉体包覆。

　　目前已有设备：GM系列百克级粉末ALD系统、KG系列公斤级粉末ALD系统，即将推出吨级粉末ALD系统

如图：GM克级粉末ALD系统

　　Cbatch系列ALD

　　连续通过式多腔体结构，全自动化传输，主要用于大批量生产，现已用于LED行业。

超高真空设备

产品：QBT-J(四腔电子束蒸发系统)\QBT-P(两腔溅射系统)\QBT-4(两腔热蒸发系统)\QBT-A(等离子体增强ALD系统)

如图：QBT-J全自动四腔超高真空双倾角镀膜系统

如图：普发真空HiPace 2300涡轮分子泵用于超高真空系统

普发真空提供一站式真空解决方案，助力厦门韫茂实现产品功能

　　HiScroll涡旋泵

　　静音、高效、无油

　　A4系列整体式干泵

　　高能效，温度控制范围广，耐腐蚀材料工艺泵，智能监控系统

　　HiPace系列涡轮分子泵

　　高压缩比，抽速高，安全稳定，体积小巧

　   PKR 361全量程真空计

　　测量范围广，极低的外部磁场，试用范围广

　　韫茂科技总经理赵茂生先生表示道：“材料科技的进步推动着科研、创新和生产。面对日益提升的性能需求，微观层面的技术显得愈发重要，甚至有可能帮助突破传统技术的瓶颈。真空技术所保障的纯净环境对微观精密作业是不可或缺的。我们很高兴能与普发真空保持合作，以其**丰富的真空设备来帮助我们的产品实现更加优异的性能，进而为更多科研机构和院校，以及下游产业等单位服务，助其攻克更多高精尖技术，提升产品性能，惠及更多用户。我们更期待藉此实现革命性的突破，终造福全人类。希望普发真空能为我们带来更多的产品和技术，与我们携手前行。”

数控机械设备1734-OE2V抗干扰能力强